0003 一种表面修饰铕的三氧化钨光电极及制备方法

一种表面修饰铕的三氧化钨光电极及制备方法时间：2014年10月24日 来源：中钨在线    本发明的特点是以电沉积的方法得到无定形的氧化钨薄膜为基体，通过滴加法将铕均匀滴加于氧化钨薄膜表面，然后在一定温度下煅烧，得到一种铕表面修饰的三氧化钨光电极。　　据大宗有色网转载：本发明公开了一种表面修饰铕的三氧化钨光电极及制备方法。本发明的特点是以电沉积的方法得到无定形的氧化钨薄膜为基体，通过滴加法将铕均匀滴加于氧化钨薄膜表面，然后在一定温度下煅烧，得到一种铕表面修饰的三氧化钨光电极。本发明的光电性能显著提高，而且实验设备简单，操作简便，条件温和，且具有环境友好等优点。　　一种表面修饰铕的三氧化钨光电极，其特征在于， 1)所述的光电极中铕与钨的原子质量比为1:99-30:70 ； 2)所述的光电极的组成颗粒变小； 3)所述的光电极的发光强度随铕修饰量增加而加强； 4)所述的光电极的带隙随铕修饰量增加而变宽； 5)所述的光电极在0.8V电压下的光电流比纯三氧化钨光电极最大增加12倍。　　一种表面修饰铕的三氧化钨光电极的制备方法，其特征在于，包括如下步骤: 1)无定形氧化钨薄膜的制备:在Na2WO4溶液中加入H2O2，得到含W20n2_的澄清电解液；然后进行电沉积，得到无定形氧化钨薄膜； 2)滴加法表面修饰铕:将硝酸铕溶液逐滴滴加到步骤I)得到的无定形氧化钨薄膜表面，晾干，得到表面修饰铕的氧化钨薄膜； 3)煅烧:将步骤2)得到的表面修饰铕的氧化钨薄膜在450°C下高温煅烧3h，冷却至室温后取出，得到表面修饰铕的三氧化钨光电极。